產品詳情:

產品應用:主要用于2~6英寸鍺單晶、砷化鎵等化合物晶體的生長

產品特點: 

◆工業計算機控制系統(WINDOWS 系統界面,操作方便簡潔) 

◆關鍵部件均采用進口,確保設備的高可靠性 

◆控溫精度高,溫區控溫穩定性好 

◆具有斷電報警、超溫/欠溫報警、極限超溫報警等多種安全保護功能 

◆晶體生長均勻性好、重復性高

主要技術指標 

◆工作溫度:600~1280℃

◆適應晶體尺寸:2~6英寸 

◆裝料量:10Kg/爐 

◆加熱控制:7段控制 

◆溫區長度:800mm±0.5℃(1000~1280℃) 

◆最大升溫速率:15℃/min

◆升降行程:900mm 

◆最小升降速率(VB):0.1mm/h

 配套設備:合成爐、鑄錠爐、脫氧封管爐等


熱門標簽:砷化鎵VGF單晶爐
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